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公司师生参加“第三届石墨烯和C3N4基光催化材料国际研讨会”

  作者:刘丽君      发布时间:2019-03-29       点击量:

2019年3月24-26日,第三届石墨烯C3N4基光催化材料国际研讨会(3nd International Workshop on Graphene and C3N4-based Photocatalysts,IWGCP3)在武汉理工大学会议中心召开。公司多名教师及研究生参会,朱君江教授作了题为“Boron doped graphitic carbon nitride for CO2 cycloaddition”的学术报告。


    本次会议吸引300余名国内外专家学者参会,参会人员来自美国、意大利、澳大利亚、日本、韩国、港澳台等多个国家及地区。会议主席为武汉理工大学余家国教授和美国肯特州立大学Mietek Jaroniec教授。该会议以石墨烯和C3N4光催化材料为主题,为国内外专家同行搭建了跨学科交流的国际平台。


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